半導体のマスク検査装置で独走 岡林理 レーザーテック社長
 Interviewer 秋本裕子(本誌編集長)

── 主力である半導体のマスク検査装置とはどんな製品ですか。
岡林 半導体を作る際に、回路パターンをウエハー(集積回路を作る基板)に露光装置を使って転写します。その露光装置の中でフィルムカメラのフィルムに当たるものがフォトマスクです。マスク検査装置はそのフォトマスクに欠陥がないか、あるいはゴミが付着していないかを検査します。半導体の製造工程に欠かせません。(2021年の経営者)

── 今のところ最先端のEUV(極端紫外光)のマスク検査装置を製品化している唯一の会社ですが、競合が出てくる可能性は。
岡林 EUVのマスク検査装置でも、DeepUV(ディープユーブイ)(深紫外光)光源を用いたものとEUV光源を用いたものがあり、当社は両方を手掛けています。実際の露光と同じ環境で検査できるEUV光源を用いたマスク検査装置は当社しか供給していません。

 先行して製品化した分、既に顧客企業からいろいろなフィードバックを受けています。競合製品が出てくる頃には、それをもとにより付加価値の高い装置に仕上げ、他社が簡単に参入できないよう参入障壁を作っていきたいと思っています。

── 他社に先行してEUVマスク検査装置を開発できた理由は。
岡林 もともとNEDO(新エネルギー・産業技術総合開発機構)が出資して作った官民のコンソーシアム(共同企業体)でEUV露光の周辺技術を開発していました。そこには世界中の半導体メーカーや関連メーカーが参加しており、2011年には、当社にEUVのマスクブランクス(フォトマスクの原版)の検査装置を発注してくれました。コンソーシアムの技術を生かして装置を開発し、さらに、顧客の要望を受けてEUVマスク検査装置の開発に乗り出しました。17年9月にはマスクブランクスの検査装置の成果を生かす形で開発に成功しました。

── 変動が激しい半導体市場で、検査装置の売り上げは。
岡林 当社の検査装置は最先端領域向けのものが多いです。需要が旺盛な分、市場の変動を受けにくいという特長があります。当社の売り上げも堅調に伸びています。

── 事業の見通しは明るいということですね。
岡林 EUV露光はまだ始まったばかりです。CPU(中央演算処理装置)に代表される「ロジックデバイス」では現在、回路の線幅が7ナノメートル(1ナノメートルは100万分の1ミリ)や5ナノの製品の量産でEUV露光が使われていますが、今後は3ナノ、2ナノといったより微細な回路を持つ半導体にも使われるようになるので、対応する検査装置の需要は増えていきます。

 さらに、ロジックだけでなくDRAM(記憶保持動作が必要な随時書き込み読み出しメモリー)の製造にもEUV露光が使われるようになりますので、EUV検査装置の市場は広がっていきます。

── 生産体制は拡充しますか。
岡林 当社は生産設備をほとんど持たない「ファブライト」です。基本的には外部の協力会社に生産を委託しています。しかし、その生産装置を作り上げるのは当社のエンジニアなので、近年はエンジニアの採用を積極的に行っています。生産設備を持たない分、人材がそのまま会社の強さになります。半導体業界の技術者は世界的に取り合いになっていますが、当社の最先端の技術開発に魅力ややりがいを感じてくれる人材を採用できています。